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氣相色譜法分析高純氣的認(rèn)識(shí)

本底

本底”是指在色譜載氣中含有的被測(cè)雜質(zhì)氣體，配標(biāo)準(zhǔn)氣用底氣中含的被測(cè)雜質(zhì)氣;測(cè)試系統(tǒng)(載氣系統(tǒng)與樣品氣系統(tǒng))帶來(lái)的或被漏入的(以氧、氮為主)該雜質(zhì)氣。大多數(shù)濃度型檢測(cè)器都要求本底值遠(yuǎn)小于它的小檢測(cè)濃度。當(dāng)載氣中本底值大于樣品氣中某雜質(zhì)濃度時(shí)，準(zhǔn)分子預(yù)混氣供應(yīng)公司，該雜質(zhì)氣會(huì)出現(xiàn)“反峰”。配制標(biāo)準(zhǔn)氣的底氣要求就更嚴(yán)格了，否則本底值直接影響定量了。

選擇氣體的注意事項(xiàng)

一、考慮讓輔助氣體與金屬材料產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)，準(zhǔn)分子預(yù)混氣廠家直銷(xiāo)，增加工作能力強(qiáng)度，更好進(jìn)行加工；

二、通過(guò)氣體將設(shè)備從切割區(qū)吹掉熔渣，清潔一些切縫；

三、可以冷卻切縫鄰近區(qū)域，減小由于熱影響區(qū)的尺寸的因素發(fā)生；

四、可以保護(hù)聚焦透鏡，防止一些燃燒產(chǎn)物沾污光學(xué)鏡片。

常用輔助氣體

氮?dú)猓涸谇懈钣猩宓臅r(shí)候，比如不銹鋼或者鋁板時(shí)，選擇用氮?dú)庾鳛檩o助氣體，可以起到冷卻和保護(hù)材料的輔助作用。因?yàn)檫@些材料容易給氧化變黑，使用氮?dú)饪梢栽诤艽蟮某潭壬媳苊膺@個(gè)情況發(fā)生。

nai氣用途之nai的低溫工程應(yīng)用

氦的液體溫度范圍為2×10-3—5.20K，準(zhǔn)分子預(yù)混氣廠家報(bào)價(jià)，氫的液體溫度范圍為14.2—33.0K，nai的液體溫度范圍為24.5—44.40K。由于nai具有化學(xué)惰性，安徽準(zhǔn)分子預(yù)混氣，且蒸發(fā)潛熱大（按同體積液體計(jì)，液nai制冷能為液氫的2.7倍），因此，在25-40K內(nèi)，經(jīng)常用nai代替氫作為實(shí)驗(yàn)的安全冷卻劑。在液nai上部抽出蒸氣，很容易使液體nai變?yōu)楣腆wnai，因?yàn)閚ai的三相點(diǎn)溫度只比它的標(biāo)準(zhǔn)沸點(diǎn)低約2.5K，在把nai作為制冷劑應(yīng)用時(shí)，利用固體nai的熔化潛熱可使nai的有效產(chǎn)冷量增加20%。

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